「一部分在這裡，還有一部分並沒有拿出來。」
莫世文這樣一說，莫非也就瞬間明白了。
的確，有好多東西，還是暫時無法曝光的。
只能等盤古研究院的五行樓交付使用之後，莫世文有了真正的獨立實驗室，才能肆無忌憚的大展拳腳。
而現在的1號試驗車間，是準備用來為天工半導體打造晶片生產線的。
到時候，會有不少的工程師入駐。
按照當初周崇華在美利堅招聘時簽署的合約，這些人，大多數是要在元旦後才會來香江的。
而正式的大規模招聘，莫非還是決定放在研究院正式啟用之前。
否則，還真的很難安排如何分工。
當然了，這些事情也不需要他來操心。
商務上有周崇華和他的團隊負責，研發上有莫世文在統籌安排，哪一個都比他強了不止一籌。
而他，也樂的站在背後指點江山。
現在這樣一內一外的局勢，很完善也很和諧。
內部掌握核心技術，進而推陳出新，更迭換代，專注於項目研發。
至於需要的外購件以及完善的技術專利，則交給外部去操作。
涇渭分明且配合默契，絕對的相得益彰。
比如這次需要打造的晶片生產線，也有很多零部件需要外購，世界上沒有哪一家公司，可以做到全覆蓋上中下游所有產業鏈的。
哪怕一個國家，有時候都不行。
就拿光刻機來說吧，其實它說白了就是一台超、超、超高精密度的照相機，能把設計好的電路投影到矽片上。
所謂的光刻機構件。
也不外乎是對準器與正負性光刻膠等。
但是它的發展，卻一直在求新求變。
從60年代的觸式和接近式，到70年代的投影式，再到80年代步進式，甚至新世紀的浸入式以及EUV。
都可以寫一本小說了。
光刻機的重要性毋庸置疑，各國也一直在持續投入研發光刻技術。
1978年，美利堅的GCA公司，花費500萬美元的巨資，終於開發出了光學圖形發生器和分步重複精縮機。
成功研製出了全球第一台，分步重複投影曝光機Mann4800DSW。
將線寬從1·5微米，縮小到了0·5微米節點。
它用的，是波長436納米的G線，作為曝光光源，CarlZeiss的S-Planar10/0·28鏡頭，進行10：1的縮小比例曝光。
可以對10毫米乘以10毫米的區域進行曝光，解析度可達1微米。
售價45萬美元。
相對於之前市場上，那些接觸式或接近式的設備，GCA的Mann4800DSW可以說是革命性的。
它不但改變了對準器對晶圓造成的污染，還利用分步重複的大覆蓋面，進一步提高了產品的良品率。
但是，它有一個很致命的缺陷，那就是吞吐量太低。
致使生產效率無法提高。
所以，莫非想要的，是新一代步進掃描式投影曝光機。
將光源技術、物鏡技術，以及後來的精密工作檯的製造技術，全部攥到手裡。
至於普通的零部件，滿世界有的是商家提供。
不但能貨比三家，還可以隨時有備胎可以選擇。
這才是理想中的形勢。
他想嘗試一下，看看自己是不是比老美更牛逼。
在光刻機領域內，後世的阿斯麥夠牛吧，在高端市場上一統江山，無人能出其右，要多風光有多風光。
但是，仔細分析一下，你就會發現。
阿斯麥的風光，基礎並不那麼牢靠。
它算得上是一個集大成者的企業，卻絕不是一家，可以俯瞰芸芸眾生的企業。
因為他自己掌握的核心技術，只有百分之幾。
而EUV光刻機的核心技術，集中在哪方面上呢？
答案是德意志蔡
第四十二章 1號試驗車間
